Toshiba 650-V- und 1.200-V-Siliziumkarbid-MOSFETs der 3. Generation
Die 650-V- und 1200-V-Siliziumkarbid-MOSFETs der 3. Generation von Toshiba sind für Hochleistungs-Industrieapplikationen wie 400 V und 800 V AC- Eingang und AC-DC-Netzteile, Photovoltaik-Umrichter (PV) und bidirektionale DC/DC-Wandler für unterbrechungsfreie Stromversorgungen (UPS) ausgelegt. Diese MOSFETs von Toshiba tragen aufgrund der SiC-Technologie zur Reduzierung des Stromverbrauchs und zur Verbesserung der Leistungsdichte bei. Diese Technologie ermöglicht höhere Spannungen, schnellere Schaltvorgänge und einen geringeren On-Widerstand. Das Design bietet eine bessere Zuverlässigkeit zusätzlich zu einer niedrigen Eingangskapazität, einem gemeinsamen Gate-Eingangsladung und einem Drain-Source-Einschaltwiderstand von nur 15 mΩ.Merkmale
- Niedrige VF
- Eingebaute Schottky-Barrieren-Dioden-Technologie für extrem niedrige VF
- Hochzuverlässig mit Zelldesign
- Niedriger RON, RON QGD
- RON QGD wird von der 2. auf die 3. Generation um 80 % reduziert
- Wettbewerbsfähiger RON QGD und Schaltleistung
- Größere VGSS-Einstufung
- Erweiterte VGSS-Einstufungen verbessern die Zuverlässigkeit des Designs und vereinfachen das Design
- VGSS -10 V bis 25 V (empfohlen 18 V)
- Ein niedriger On-Widerstand und eine höhere Gate-Schwellenspannung (Vth) helfen, Fehlfunktionen wie ein versehentliches Einschalten zu verhindern
Applikationen
- Industriemotorantriebe
- Ladegerät
- AC/DC- und DC/DC-Wandler
- Blindleistungskompensationsschaltung
- Energiespeichersysteme
- Solarenergie
- Unterbrechungsfreie Stromversorgungen
Videos
Gehäuse und interne Schaltung
Gehäuseabmessungen
Veröffentlichungsdatum: 2022-07-05
| Aktualisiert: 2024-05-01
