Toshiba GT20N135SRA Silizium-n-Kanal-IGBT

Der Toshiba GT20N135SRA Silizium-n-Kanal-IGBT ist ein IGBT der 6.5-Generation und besteht aus einer  monolithischen Freilauf diode (FWD), die in einen IGBT-Chip integriert ist. Dieser IGBT verfügt über eine niedrige Sättigungsspannung von 1,60 V und wird bei einer hohen Sperrschichttemperatur von max. 175 °C und einer Hochgeschwindigkeits-Schaltung von 0,25 µs betrieben. Der GT20N135SRA Silizium-n-Kanal-IGBT eignet sich hervorragend für Spannungsresonanz-Wechselrichterschaltungen, weiche Schaltungen und Induktionskochfelder und Haushaltsgeräte-Applikationen.

Merkmale

  • 6.5-Generation
  • Erweiterungsmodus
  • Freilaufdiode (FWD), die monolithisch in einen IGBT-Chip integriert ist

Technische Daten

  • Hochgeschwindigkeits-Schaltung:
    • IGBT tf = 0,25 µs (typisch)
  • Geringe Sättigungsspannung:
    • VCE(sat) = 1,60 V (typisch)
    • IC = 20 A
    • TA = 25 °C
  • Hohe Sperrschichttemperatur:
    • Tj = 175 °C (max.)

Applikationen

  • Spannungsresonanz-Wechselrichterschaltung
  • Sanftes Schalten
  • Induktionskochfelder und Haushaltsgeräte

Gehäuseabmessungen

Technische Zeichnung - Toshiba GT20N135SRA Silizium-n-Kanal-IGBT
Veröffentlichungsdatum: 2020-03-01 | Aktualisiert: 2024-11-08